Cara penguapan sinar elektron minangka jinis lapisan penguapan vakum, sing nggunakake sinar elektron kanggo langsung panas materi penguapan ing kahanan vakum, nguap bahan penguapan lan ngeterake menyang landasan, lan ngembun ing landasan kanggo mbentuk film tipis.Ing piranti dadi panas sinar elektron, zat sing digawe panas diselehake ing crucible sing digawe adhem banyu, sing bisa nyegah reaksi antarane bahan penguapan lan tembok crucible lan mengaruhi kualitas film.Multiple crucibles bisa diselehake ing piranti kanggo entuk penguapan simultaneous utawa kapisah lan deposition saka macem-macem bahan kimia.Kanthi penguapan sinar elektron, materi apa wae bisa nguap.
Penguapan sinar elektron bisa nguap bahan titik leleh dhuwur.Dibandhingake karo penguapan pemanasan resistensi umum, efisiensi termal sing luwih dhuwur, Kapadhetan saiki sinar sing luwih dhuwur, lan kecepatan penguapan sing luwih cepet.Film lan film saka macem-macem bahan optik kayata kaca konduktif.
Karakteristik penguapan sinar elektron yaiku ora bakal utawa arang nutupi loro-lorone saka target struktur telung dimensi, lan biasane mung celengan ing permukaan target.Iki prabédan antarane penguapan berkas elektron lan sputtering.
Penguapan sinar elektron umume digunakake ing bidang riset lan industri semikonduktor.Energi elektron sing digawe cepet digunakake kanggo nyerang target materi, nyebabake target materi nguap lan munggah.Pungkasane disimpen ing target.
Wektu kirim: Dec-02-2022